超高压XRD运用成像板技术，通过成熟的工艺技术，配合高压系统Diamond Anvil Cell Holder 670.5，通过金刚石对顶砧加压，可实现在高达70GPa的压力条件下研究粉末样品（可扩展至120GPa）。
超高压XRD实验时对样品制备有哪些要求？
1.金属样品如块状、板状、圆拄状要求磨成一个平面，面积不小于10·10毫米，如果面积太小可以用几块粘贴一起。
2.对于片状、圆拄状样品会存在严重的择优取向，衍射强度异常。因此要求测试时合理选择响应的方向平面。
3.对于测量金属样品的微观应力（晶格畸变），测量残余奥氏体，要求样品不能简单粗磨，要求制备成金相样品，并进行普通抛光或电解抛光，消除表面应变层。
4.粉末样品要求在3克左右，如果太少也需5毫克。
5.样品可以是金属、非金属、有机、无机材料粉末。
6.对于使用的、购买的各种原料一定要进行鉴定，如材料分子式，晶型，结晶度，粒度等。以免用错原料。
7.对于不同基体的薄膜样品，要了解检验确定基片的取向，X射线测量的膜厚度约20个钠米。
8.对于纤维样品的测试应该提出测试纤维的照射方向，是平行照射还是垂直照射，因为取向不同衍射强度也不相同。
9.对于焊接材料，如断口、焊缝表面的衍射分析，要求断口相对平整，提供断口所含元素。如果一个断口照射面积小则可用两个或三个断口拼起来。
10.为保证对实验样品有一个好的实验结果，对于特殊的样品可提出衍射实验方案。
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